比如光刻胶涂布模块，我们放弃国外主流的‘旋转喷涂’专利，改用‘狭缝挤压涂布’技术，实测涂布均匀度误差仅0.003微米，完全达到要求；

量产效率方面，我们优化了晶圆传送臂的运动轨迹，虽然机身放大，但单批次晶圆处理时间仅增加0.8秒。

通过增加并行处理单元，整条产线的年产能可以稳定在33万片以上，足以支撑繁星科技和下游合作厂商的需求。

当然，这些数据都是通过女娲系统测算，与现实肯定有所差距！”

王世杰补充道：“我们还做过测算，放大版65纳米光刻机的研发周期预计12个月，只比复刻原版增加了3个月；

量产成本降低40%，这意味着后续扩产时，我们能以更低的投入快速搭建新产线，应对芯片需求的爆发式增长。”

楚千澜指尖轻叩桌面，眸色渐沉：“12个月的研发周期，时间可以接受。这套设备，你们研发的是65纳米的，还是45纳米的？”

听到询问，张北光眼中闪过一丝兴奋，“楚总，我们准备直接研发45纳米制程的光刻设备！

虽然没有拆解过45纳米光刻机，但我们在国外工作时，见过那些设备，对结构很熟悉。

再加上拆解65纳米光刻机的经验，研发一套扩展空间后的光刻设备，我们团队还是很有信心的。

只是，其中的光源设备还需要采购，这里面的专利技术太多，我们短时间无法突破限制！”

楚千澜略作沉吟，语气坚定的开口，“你们先研发光刻机主体，至于光源部分，我再想想办法。

前段时间，我看到一篇关于“激光诱导放电等离子体”的文章，感觉可以将其用来制作光刻机的光源，我最近会使用女娲系统推演一番，若是可以，你们按照我给的技术大纲研发就行了！”

此时，他已经准备从科技图书馆中拿技术了，至于使用女娲系统推演，也只是借口而已。