转眼便是三月五日，春节假期早已过去，楚千澜上班也已经一个多星期。

就在五天前，65纳米光刻机完成了调试。

早在年前，负责研发存储芯片的赵立伟团队根据之前的研发成果，简化出一款65纳米制程的存储芯片。

这也是为了实验65纳米光刻机调试结果，专门研发的芯片。

不过，因为各种原因，这款芯片的流片直到第三次才成功。

听到这消息，楚千澜也很高兴。这意味着，65纳米光刻机调试成功。

而接下来，深蓝半导体的设备工程师又忙碌起来，他们开始尝试使用“多重曝光技术”，生产45纳米制程的存储芯片。

65纳米光刻机生产65纳米芯片，这本就是正常的事情。而生产出45纳米的芯片，才是楚千澜真正的目标。

三月五日的中午，深蓝半导体的厂区被笼罩在春雨当中，二号车间内却已是一片忙碌景象。

“多重曝光技术”的试验正在紧锣密鼓地进行中。工程师们围在65纳米光刻机旁，神情专注而紧张。

"第一道曝光工序完成，准备第二道。"设备工程师的声音透过对讲机传来。

"确认对位精度，误差控制在0.02微米以内。"张北光的声音沉稳而坚定。

楚千澜站在观察窗前，目光紧紧盯着屏幕上的对位标记。这是他真正关心的时刻，用65纳米设备挑战45纳米制程。

经过数小时的精细操作，第一片硅晶圆完成所有生产工序。

"送检测室。"张北光下令。

等待检测结果的时间总是漫长的。楚千澜在走廊上来回踱步，思绪万千。

"如果这次成功，我们将拥有自主生产45纳米芯片的能力。"王世杰站在一旁，语气中带着期待。